实验型等离子清洗机 桌面等离子13.56MHz清洗机 低温表面清洗

   KT-S2DQX型等离子清洗机属于13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。

   该清洗机内置不高纯石英仓体，容积为2升，结构为国际上的通用结构。采用了新型的外观结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空 气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验 样品清洗 和教学。

供电电源：AC220V（AC110V可选)

工作电流：整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)

射频电源功率：150W

射频频率：13.56MHz

频率偏移量：＜0.2MHz

特性阻抗：50欧姆，手动匹配

耦合方式：感应耦合式（线圈耦合）

真空度：≤100Pa

腔体材质：高纯石英

腔体容积：2L(内径110MMX深度220MM)

观察窗内径：Φ70

气体流量：10—600ml/min（其他量程可选）

过程控制：过程手动控制

清洗时间：手动开关

开盖方式：铰链侧开式法兰

外形尺寸：400x380x360mm

重量：23Kg

真空室温度：小于65°C

冷却方式：强制风冷

标配：KF16波纹管1米，kf16卡箍2个，电源线一根，说明书一本。

 

   等离子清洗机具备有**清洗功能，并且在特定条件下还可根据需要改变用于某些材料表面的性能，如把等离子清洗机的等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。RFC-2C在**清洗过程中等离子清洗机的辉光放电不但能够加强多数材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。RFC-2C等离子清洗机广泛应用于光学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域

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